不銹鋼蝕刻工藝和特點
不銹鋼蝕刻原理
也稱光化學蝕刻，指通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護膜去除，在蝕刻時接觸化學溶液，達到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。
不銹鋼蝕刻工藝流程
曝光法：裁切-清洗-烘干→貼膜或涂布→烘干→曝光→ 顯影→烘干-蝕刻→脫膜→OK
網印法：開料→清洗→絲網印→蝕刻→脫膜→OK
特點：
成本低、可蝕刻幾乎所有的金屬、對材料硬度無限制、材料表面無刮花、無毛刺、設計改變靈活、快速、簡單、高效；制程耗時48小時、材料厚度對公差的影響+/-10%，產片包裝轉移方便。
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